|
Thông tin chi tiết sản phẩm:
|
| độ dày rạch: | 2g/phần~8g/phần | Người mẫu: | OSM-XT-2400T |
|---|---|---|---|
| Loại máy: | Máy phủ | Màu sắc: | tùy chỉnh |
| Độ dày làm việc: | 3-80mm | Ánh sáng: | Ống hồng ngoại IR |
| Hệ thống điều khiển: | Điều khiển PLC bằng màn hình cảm ứng | Báo cáo thử nghiệm máy móc: | Cung cấp |
| Làm nổi bật: | Hệ thống sơn xoay hai đầu công nghiệp,Chuck spin coater tùy chỉnh,Máy đúc bột giấy tự động |
||
Cái nàymáy phủ quay trạm kép có thể tùy chỉnhđược thiết kế để lắng đọng màng mỏng thông lượng cao trên các chất nền như tấm silicon, thủy tinh và màng polymer. Có sẵn ởnghiên cứu,phòng sạch, Vàsản xuất công nghiệpcấu hình. Hệ thống làhoàn toàn có thể tùy chỉnhvề kích thước mâm cặp, phạm vi tốc độ quay, số bước chương trình và phương pháp phân phối. Hai trạm độc lập cho phép vận hành đồng thời hoặc luân phiên - một trạm có thể phủ sơn trong khi trạm kia đang tải/dỡ hàng, giúp tăng năng suất đáng kể. Lý tưởng cho các ứng dụng lớp phủ quang học, lắng đọng sol-gel và lớp rào cản trong ngành công nghiệp bán dẫn, MEMS, quang học và điện tử in.
| tham số | Mô hình nghiên cứu tốc độ cao | Mô hình tích hợp phòng sạch | Mô hình sản xuất công nghiệp |
|---|---|---|---|
| Số lượng trạm | 2 độc lập | 2 độc lập | 2 độc lập (hoặc có thể tùy chỉnh tối đa 4) |
| Phạm vi tốc độ quay | 300 - 10.000 vòng/phút | 500 - 8.000 vòng/phút | 100 - 3.000 vòng/phút (có thể tùy chỉnh lên tới 15.000) |
| Độ chính xác về tốc độ | ±1 vòng/phút | ±3% | ±1 vòng/phút (servo) |
| Kiểm soát gia tốc | Có thể lập trình nhiều bước | điều chỉnh PID | Có thể lập trình nhiều bước |
| Kích thước nền (có thể tùy chỉnh) | Lên tới 200 mm (8") mỗi trạm | Lên tới 300 mm (12") mỗi trạm | Lên tới 450 mm (18") - có thể tùy chỉnh |
| Các giai đoạn lập trình | 10 bước mỗi trạm | 5 bước mỗi trạm | Dựa trên công thức (không giới hạn) |
| Hệ thống chân không | Bơm độc lập trên mỗi trạm | Van dùng chung + điện từ | Bơm lưu lượng cao độc lập |
| Mức độ sạch (tùy chọn) | không áp dụng | Lớp 100 (Fed Std. 209E) | Lớp 1000 hoặc tùy chỉnh |
| Vật liệu bao vây | Thép không gỉ / PTFE | Thép không gỉ + chống ăn mòn | Lớp phủ kháng hóa chất |
| Hệ thống phân phối | Ống tiêm / vòi phun bằng tay | Bơm định lượng bán tự động | Định lượng tự động điều khiển bằng servo |
| Giao diện | Màn hình cảm ứng 7" mỗi trạm | Màn hình cảm ứng kép | PLC + HMI với chức năng ghi dữ liệu |
| Nguồn điện | AC 110/220V, 50/60Hz | AC 220V, 50/60Hz | AC 380V, 50/60Hz (có thể tùy chỉnh) |
| Kích thước | ~700×400×300mm | 650×750×1620mm | Có thể tùy chỉnh |
| Cân nặng | ~28 kg | ~120kg | Có thể tùy chỉnh |
Máy phủ quay trạm kép này làtùy biến caođể đáp ứng các yêu cầu ứng dụng cụ thể của bạn:
Đáp: Máy hai trạm chia sẻ một hệ thống điều khiển và vùng phủ sóng trong khi cho phép một người vận hành tải/dỡ một trạm trong khi trạm kia đang phủ - loại bỏ thời gian nhàn rỗi. Điều này dẫn đến tổng mức đầu tư thấp hơn, không gian phòng thí nghiệm nhỏ hơn và năng suất cao hơn.
Đ: Vâng. Mỗi trạm có các điều khiển lập trình độc lập, cho phép bạn phủ các vật liệu hoặc kích thước bề mặt khác nhau cùng một lúc mà không bị nhiễm bẩn chéo.
A: Chucks làtùy chỉnhdựa trên kích thước và vật liệu nền của bạn. Chúng tôi cung cấp mâm cặp tiêu chuẩn cho tấm wafer tròn (2"-12") vàmâm cặp gia công tùy chỉnhcho các chất nền hình vuông, hình chữ nhật hoặc không đều.
Người liên hệ: Mr. Zhang guoxin
Tel: +86 13926890692
Fax: 86-769-88120350